Termék áttekintése

A Nice-Tech két dedikált szilíciummaratási rendszert kínál különböző méretű lapkákhoz, mindkettő ICP technológián alapul, és IC tömeggyártásra lett szabva.

12 hüvelykes rendszer (SES-12)

A 12-hüvelykes IC előlapi- (FEOL) folyamatokra összpontosít. Az ICP maratási kamrákból és egy átviteli modulból áll, lefedi a szilíciummaratást, a dielektromos maratást, a gate etch-et, a W recess-et és az SADP-t, amelyeket logikai és memóriaeszközök nagy pontosságú mintázására terveztek.

8 hüvelykes rendszer (SES-8)

Több-kamrás rendszer 8-hüvelykes készülékekhez, a kapufolyamatokra összpontosítva. Legfeljebb 5%-ot biztosít a -ostya és ostya-lapok közötti maratási egyenletessége, kiváló részecskekontroll, valamint támogatja az AA, STI, távtartó és W bemélyedéseket.

Előnyök

Széles folyamatlefedettség

Itt két fő beállításunk van. A 12 hüvelykes rendszer mindenféle FEOL folyamatot átvesz, nem probléma. Ami a 8 hüvelykeset illeti? A kapura és a kapcsolódó folyamatokra összpontosít, és tökéletesen illeszkedik a 0,11 μm-es és nagyobb csomópontokhoz.

Nagy pontosság és stabilitás

A pontosság az, ahol ezek a rendszerek ragyognak. A 12-hüvelykes modell a legmagasabb szintű egységességet és A 8 hüvelykes változat is megállja a helyét: alacsony egyenletességi eltérés, valamint szigorú részecskekontroll, így konzisztens eredményekre számíthat.

Tömeg-termelés és költség-hatékonyság

A legjobb az egészben, hogy mindkettő készen áll a tömeggyártásra. A 12-hüvelykes méretet nagy-léptékű gyártósorokhoz tervezték, ami nagy mennyiségű-futtatásokhoz is megfelelő. A 8 hüvelykes azonban okos választás, ha kapacitásbővítést szeretne – helyet és költséget is megtakarít, ami mindig előnyt jelent a műveletek során.

Alkalmazás

IC FEOL gyártás

12 hüvelykes rendszer a 12 hüvelykes logikai/memóriai FEOL folyamatokhoz; 8 hüvelykes rendszer a 8 hüvelykes kapu maratásához.

Speciális folyamatok

a 12 hüvelykes rendszer támogatja az SADP/W bemélyedést; A 8 hüvelykes rendszer az STI/spacer folyamatokhoz működik.

Kapacitás bővítése

12-hüvelyk, nagy méretű készülékekbe integrálható; A 8-hüvelyk költséghatékony támogatást nyújt a közepesen kisméretű készülékekhez.

Paraméterek

Kategória	12 hüvelykes szilikon maratási rendszer	8 hüvelykes szilikon maratási rendszer
Ostya kompatibilitás	12{2}} hüvelykes (300 mm-es) IC lapkák, tömeggyártási vonalakra szabva	8 hüvelykes IC ostyák; kompatibilis a 0,11 μm-es és fejlett technológiájú csomópontokkal
Kamra konfiguráció	ICP maratási kamrák + átviteli modul	ICP maratási kamrák + átviteli modul; több-kamrás kialakítás tömeggyártáshoz
Kulcsfontosságú folyamatképességek	Szilícium marás, dielektromos marás, kapumarás, W bemélyedés, SADP	Kapumarás, AA, STI, távtartó marás, W bemélyedés
Ech Uniformity	Kiváló egységesség-szabályozás (megfelel a fejlett csomóponti precíziós szabványoknak)	Legfeljebb 5% az ostyán belül-; Legfeljebb 5% ostya-to{4}}ostya
Részecskeszabályozás	Szigorú részecskeszabályozás a magas termékhozam érdekében	Kiváló részecskeszabályozás a stabil tömeggyártás érdekében
Ipari megfelelőség	Alkalmas 12-hüvelykes IC térfogatú gyártásához; megfelel a félvezető tömeggyártási szabványoknak	Független optimalizált tervezés; elfér a 8 hüvelykes nagy helyhez és a kapacitásbővítés költségigényéhez

GYIK

K: Milyen szeletméreteket támogat a két rendszer?

V: A 12 hüvelykes rendszer támogatja a 12 hüvelykes (300 mm-es), a 8 hüvelykes rendszer pedig a 8 hüvelykes IC szeleteket.

K: Milyen alapvető folyamatokat fednek le?

V: A 12 hüvelykes rendszer lefedi a szilícium maratását, dielektromos maratását, SADP-t, W mélyedést stb.; a 8 hüvelykes rendszer a gate etch-re összpontosít, és támogatja az STI-t, a spacer etch-et stb.

K: Mely technológiai csomópontokkal kompatibilisek?

V: A 12 hüvelykes rendszer alkalmazkodik a fejlett technológiai csomópontokhoz; a 8 hüvelykes rendszer kompatibilis a 0,11 μm-es és a feletti fejlett csomópontokkal.

K: Mindkét rendszer alkalmas tömeggyártásra?

V: Igen. A 12-hüvelykes rendszer nagy-méretű gyártósorokhoz illeszkedik, míg a 8-hüvelykes rendszer helytakarékos és költséghatékony tömeggyártáshoz.

K: Mi a 8 hüvelykes rendszer maratási egységessége?

V: Legfeljebb 5% az ostya-egységen belül, és legfeljebb 5% ostya---ostya egyenletessége.

Népszerű tags: szilícium maratási rendszer, Kína szilícium maratási rendszer gyártói, beszállítói